[發明專利]清洗系統、清洗裝置及清洗方法在審
申請號: | 201810852395.6 | 申請日: | 2018-07-27 |
公開(公告)號: | CN110767573A | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
發明(設計)人: | 張瑞堂 | 申請(專利權)人: | 奇景光電股份有限公司 |
主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 72002 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 李隆濤 |
地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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摘要: | 一種清洗系統包括一清洗裝置以及一模具。清洗裝置包括一容納結構,其中容納結構具有一底面及一擋墻。擋墻從底面延伸出而形成一容納槽。容納槽適于容納一清洗液。模具適于被支撐于擋墻的一頂端并接觸清洗液。一種清洗方法亦被提及。 | ||
搜索關鍵詞: | 擋墻 清洗裝置 容納結構 清洗液 容納槽 底面 模具 清洗系統 清洗 容納 延伸 支撐 | ||
【主權項】:
1.一種清洗系統,其特征在于,包括:/n清洗裝置,包括容納結構,其中所述容納結構具有底面及擋墻,所述擋墻從所述底面延伸出而形成容納槽,所述容納槽適于容納清洗液;以及/n模具,適于被支撐于所述擋墻的頂端并接觸所述清洗液。/n
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- 本實用新型提供一種電池片吹干架,在側板上固定有平行的上支撐桿和下支撐桿,上支撐桿朝下設有一排凸起,凸起之間形成夾槽,下支撐桿朝上設有一排凸起,凸起之間形成夾槽,上支撐桿的夾槽與下支撐桿的夾槽位置對應,其特征在于:下支撐桿的底端線位置向下延伸有水滴收集條;水滴收集條的下邊線到下支撐桿的底端線的距離為水滴收集條的高度,水滴收集條的高度從水滴收集條的一端到另一端逐漸增加。本實用新型使電池片吹干架的水滴滴落速度快,提高生產效率。
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- 孫余軍;符黎明;任常瑞;曹建忠;王敏 - 常州時創能源科技有限公司
- 2019-07-25 - 2020-02-14 - H01L21/67
- 本實用新型公開了一種太陽能電池片的電注入設備,包括:用于堆放電池片的導電支承板,用于檢測導電支承板上所堆放電池片溫度的溫度檢測裝置,用于冷卻導電支承板上所堆放電池片的冷卻裝置,以及溫度控制裝置;溫度檢測裝置包括:豎向等間隔依次設置的多個溫度探頭;冷卻裝置包括:豎向等間隔依次設置的多個吹氣管;各吹氣管上分別設有流量調節閥;溫度探頭與吹氣管一一對應,且溫度探頭和對應的吹氣管位于同一高度;所述溫度控制裝置,其根據溫度探頭所感應的溫度,來控制該溫度探頭所對應吹氣管上的流量調節閥工作。本實用新型的電注入設備,其能對堆疊在一起的電池片進行分層溫控,進而提高電注入效果的均勻性。
- 一種用于收集導線架料盒側蓋的治具-201921232734.7
- 楊元杰;王加大 - 紫光宏茂微電子(上海)有限公司
- 2019-08-01 - 2020-02-14 - H01L21/67
- 本實用新型實施例公開了一種用于收集導線架料盒側蓋的治具。本實用新型的治具,包括:工作臺、兩根接料管道和兩個收集箱,工作臺的臺面設有兩個矩形通孔,且工作臺的臺面上設有限位擋條,限位擋條位于兩個矩形通孔的頂部之間,兩個收集箱設置在工作臺上,兩根接料管道的頂端分別與兩個矩形通孔連通,底端分別與兩個收集箱連接。本實用新型的用于收集導線架料盒側蓋的治具,料盒放置在工作臺上,并使料盒側蓋的水平部朝下,將料盒沿臺面推動至與限位擋條抵持,料盒的左右側壁位于兩個矩形通孔處,使料盒側壁上的料盒側蓋從矩形通孔滑落,并沿著接料管道流落到收集箱內,完成料盒側蓋的收集,并保持環境的整齊有序。
- 一種應用于金線鍵合機的高精度高剛性的軸承機構-201921276336.5
- 胡新榮;梁志宏;余振超 - 深圳新益昌科技股份有限公司
- 2019-08-05 - 2020-02-14 - H01L21/67
- 本實用新型公開了一種應用于金線鍵合機的高精度高剛性的軸承機構,該軸承機構包括一邦頭聯接件,還包括水平置的底座、呈正交分布于所述底座上的彈簧片以及一壓塊,所述彈簧片通過壓塊以及螺釘分別連接所述邦頭聯接件和所述底座且所述邦頭聯接件能夠繞正交的彈簧片的中心擺動。本實用新型軸承機構通過成正交分布的彈簧片,一端安裝于底座上,另外一端安裝有水平放置的邦頭聯接件,邦頭聯接件繞著正交的彈簧片的中心擺動。消除了傳統軸承滑動副或者滾動副的阻力,摩擦和配合間隙,達到了高精度和高壽命的效果。
- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造