<rp id="fwvt1"></rp>

        [發明專利]光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法有效

        專利信息
        申請號: 201510484698.3 申請日: 2015-08-04
        公開(公告)號: CN105334705B 公開(公告)日: 2018-06-19
        發明(設計)人: 川島春名 申請(專利權)人: 佳能株式會社
        主分類號: G03F7/20 分類號: G03F7/20
        代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 代理人: 楊小明
        地址: 日本*** 國省代碼: 日本;JP
        權利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
        摘要: 發明涉及光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法。提供一種光源裝置,該光源裝置包括:被配置為從具有預先確定的尺寸的發光區域發射光束的光源;和被配置為會聚光束而允許光束出射到外面的會聚器。發光區域具有旋轉對稱的發光強度分布。會聚器關于被定義為發光區域的旋轉對稱軸的光軸旋轉對稱、被設置為包圍發光區域、并且具有分別具有用于反射從發光區域發射的光束的反射表面的四個或更多個反射鏡。所述四個或更多個反射鏡包含反射表面為橢圓形的橢圓表面反射鏡和反射表面為球面的球面反射鏡。橢圓表面反射鏡和球面反射鏡沿所述光軸的方向被交替布置,并且,被一個球面反射鏡反射的光束進一步被跨著發光區域相對設置的一個橢圓表面反射鏡反射,而允許光束出射到外面。
        搜索關鍵詞: 發光區域 光源裝置 反射鏡 球面反射鏡 反射表面 橢圓表面 曝光裝置 旋轉對稱 照明裝置 裝置制造 會聚器 出射 光軸 反射 發光強度分布 反射鏡反射 旋轉對稱軸 發射光束 會聚光束 交替布置 相對設置 預先確定 光源 配置 包圍 發射
        【主權項】:
        1.一種光源裝置,其特征在于包括:被配置為從發光區域發射光束的光源;和被配置為會聚光束而允許光束出射到外面的會聚器,其中,所述發光區域具有旋轉對稱的發光強度分布,會聚器包括四個或更多個反射鏡,所述四個或更多個反射鏡分別具有用于反射從所述發光區域發射的光束的反射表面,每個反射表面被形成為關于被定義為所述發光區域的旋轉對稱軸的光軸旋轉對稱,并且所述四個或更多個反射鏡被設置為圍繞光源,所述四個或更多個反射鏡包含反射表面為橢圓形的橢圓表面反射鏡和反射表面為球面的球面反射鏡,并且,橢圓表面反射鏡和球面反射鏡沿所述旋轉對稱軸的方向被交替布置,并且,被一個球面反射鏡反射的光束進一步被跨著所述發光區域相對設置的一個橢圓表面反射鏡反射,而允許光束出射到外面。
        下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。

        該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于佳能株式會社,未經佳能株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服

        本文鏈接:http://www.musicboxmix.net/patent/201510484698.3/,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。

        同類專利
        • 無掩模直寫光刻系統-201910597946.3
        • 胡敬佩;張沖;朱玲琳;曾愛軍;黃惠杰 - 中國科學院上海光學精密機械研究所
        • 2019-07-04 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 一種無掩模直寫光刻系統,包括直寫光源、能量控制單元、激光分束控制與掃描單元、聚焦伺服單元、紅光檢測單元、多軸工件平臺和控制單元。在控制單元的總體控制下,所述的直寫光源發出的光經過能量控制單元的控制、照射到激光分束控制與掃描單元上,經激光分束控制與掃描單元調控后,再經過聚焦伺服單元聚焦和紅光檢測單元的檢測,最終將多路光束平行地聚焦在光刻膠上進行直寫。本發明能夠實現多光束的獨立控制、并行直寫和二維振鏡掃描,比單點掃描系統提升了成倍的光刻效率。提升了直寫光刻機的掃描速率及掃描自由度。
        • 一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機及其方法-201910744354.X
        • 郭志宏 - 大同新成新材料股份有限公司
        • 2019-08-13 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機及其方法,其一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機包括工作臺,所述工作臺的頂部固定安裝有支撐架,所述支撐架的底部固定安裝有探測頭,所述工作臺的頂部滑動連接有移動托盤,且移動托盤上固定連接有橫向位置調節組件,所述工作臺的頂部固定安裝有頂部設置有開口的處理箱,所述處理箱的一側轉動鉸接有密封門。本發明結構簡單,可以機械化的對硅片進行清洗、烘干,無需人工操作,大大節省了人力,同時可以為滿足對硅片的生產需要,同時可以對硅片的橫向位置進行調節,使得此光刻機本體可以對不同硅片進行光刻,使用方便,具有較強的實用性。
        • 一種改進型的曝光機燈管冷卻裝置-201711154131.5
        • 龐超群;陶薇 - 張家港奇點光電科技有限公司
        • 2017-11-20 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種改進型的曝光機燈管冷卻裝置,其結構包括固定螺栓螺母,固定底座,內螺紋管,螺紋桿,散熱架,縱向連接梁,橫支梁,通孔,可調節夾桿結構,可調節散熱片結構和燈管本體。本發明導熱片,帶冷卻液導熱管和散導管的設置,可對燈管起到良好的散熱和導熱效果,提高冷卻能力;散熱板,固定架,帶有殼體電機和散熱葉的設置,可對燈管進行快速降溫散熱工作,保證散熱、冷卻效果;調節桿,固定管,緊固螺栓,夾板和提拉柄的設置,可方便固定不同型號的燈管本體,同時可方便固定住燈管本體。
        • 一種新型的大臺面LED曝光機-201711154244.5
        • 龐超群;陶薇 - 張家港奇點光電科技有限公司
        • 2017-11-20 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種新型的大臺面LED曝光機,包括箱體,可調節拉手裝置,電池,連接桿,移動輪,傳動電機,曝光燈,散熱扇裝置,擋雨板裝置和安裝板,所述的可調節拉手裝置軸接在箱體的左側。本發明傳動電機和移動輪的設置,有利于移動更加靈活;防護外殼,扇葉,轉盤,安裝螺栓,固定板,轉桿和旋轉電機的設置,有利于提高曝光機的散熱效果;扇葉具體采用PVC塑料葉,有利于防止腐蝕,延長使用壽命;防護外殼具體采用PE塑料殼,有利于降低維護成本,減輕自重;把手,延長管,調節螺栓,轉軸和固定管的設置,有利于方便攜帶和移動;合頁,連接板,擋板,子貼和母貼的設置,有利于防止雨水進入到曝光機內部對曝光機造成損害。
        • 一種新型的曝光機的曝光平臺-201711154071.7
        • 龐超群;陶薇 - 張家港奇點光電科技有限公司
        • 2017-11-20 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種新型的曝光機的曝光平臺,包括固定耳板,曝光臺,曝光孔,可調節遮光板結構,真空罩,吸管,管接頭,可調節高度桿結構,底座和固定盤結構,所述的固定耳板分別焊接在曝光臺的左右兩端。本發明透光滑軌,左遮光板,左移動滑塊,右遮光板和右移動滑塊的設置,可便于進行調光工作,保證曝光效果;左密封墊,左L型掛板,左調節螺栓和左拉環的設置,有利于配合右密封墊,右L型掛板,右調節螺栓和右拉環的設置??杀阌谶M行曝光固定工作,便于操作,保證曝光效果;左旋螺桿,長螺母,一級常規軸承,一級安裝座,右旋螺桿,二級常規軸承和二級安裝座的設置,可便于根據需要進行調節整個曝光臺的高度。
        • 一種提高光刻能量均勻性和改善拼接的方法-201610973660.7
        • 俞慶平 - 俞慶平
        • 2016-11-07 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種提高光刻能量均勻性和改善拼接的方法,適用于采用面陣空間光調制器作為圖形發生器進行掃描曝光的光刻系統,過程如下:采集模塊采集掃描曝光過程的能量數據,運算模塊分析能量數據并形成單線條能量分布圖,進行拼接區域能量合并,提取能量合并后的單線條能量分布圖單元區間內的特征參數,根據特征參數計算面陣空間光調制器像素單元的目標打開次數,運算模塊將目標打開次數傳輸至數據處理系統,數據處理系統依據目標打開次數控制面陣空間光調制器各像素單元的打開或關閉。本發明的方法在不改變掃描速度以及不影響產能的情況下,能夠提高勻光效果,改善拼接效果;本發明的方法同樣適用于傾斜式掃描和垂直式掃描,應用范圍更廣。
        • PCB菲林對位曝光裝置-201920557402.X
        • 賴建春;陳亮;沈光陽 - 江門市眾陽電路科技有限公司
        • 2019-04-23 - 2019-11-12 - G03F7/20
        • 本實用新型實施例公開了一種PCB菲林對位曝光裝置,包括B面菲林、T面菲林、定位基座、邊條、菲林固定夾及若干個定位釘,其中,定位基座上開設有對位孔,對位孔為上下貫通的通孔;B面菲林和T面菲林一側的非圖形區均開設有位置與對位孔對應的掛釘孔;邊條與B面菲林和T面菲林另一側的非圖形區粘接;定位基座通過定位釘設于B面菲林與T面菲林一側的非圖形區之間;菲林固定夾夾于B面菲林和T面菲林對應邊條的一側上;B面菲林、T面菲林的圖形區內設有多個菲林對位PAD。本實用新型通過采用定位基座和定位孔來提高兩面菲林對準精度,解決內層芯板曝光無孔對位的問題,有效提高了手動曝光機對內層芯板生產效率。
        • 一種曝光機-201910645184.X
        • 韓宗范;許俊安;王維;丁仁義;馮超;王抗 - 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
        • 2019-07-17 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本申請公開了一種曝光機,該曝光機用于將電路繪制于玻璃基板上,該曝光機包括:殼體、機械手、保護罩和導流組件,殼體用于為玻璃基板提供密閉的工作環境,機械手固定在殼體內,機械手用于將玻璃基板傳遞至殼體中的曝光區域處,保護罩罩設在機械手上,導流組件,導流組件的一端與保護罩連接,導流組件的相對一端穿設于殼體,且用于與排風系統連接,其中,在排風系統運行時,排風系統在導流組件中形成負壓氣流,以將保護罩內的空氣抽出。本申請的曝光機能夠降低殼體內部中微塵出現的可能性。
        • 曲面曝光裝置及方法-201910671030.8
        • 蔡志國;江俊龍 - 蘇州微影激光技術有限公司
        • 2019-07-24 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本發明提供了一種曲面曝光裝置及方法,所述曲面曝光裝置包括支架、控制機構、載物機構和設于所述支架上的光學投影機構,所述載物機構具有載物臺以及驅動件,所述光學投影機構沿第一方向向所述載物臺出射光,所述驅動件驅動所述載物臺以垂直于所述第一方向的第一軸線翻轉;所述控制機構連接并控制所述驅動件,其包括用于獲取待曝光區域的表面形狀信息的獲取單元,以及路徑控制單元,所述路徑控制單元用于根據所述表面形狀信息控制所述驅動件驅動所述載物臺繞所述第一軸線翻轉,使所述載物臺最多只有部分位于所述光的出射路徑上。這樣,不需要制作治具,可節省大量的時間和成本,同時精準控制曝光區域,提高產品合格率。
        • 一種用于無掩模光刻掃描的分布式曝光方法-201810253685.9
        • 楊剛;吳晨楓;鄭春紅;李威威;石峰 - 西安電子科技大學
        • 2018-03-26 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 一種用于無掩模光刻掃描的分布式曝光方法,用于有效的提高線路板光刻中基板的曝光處理速度。具體包括以下步驟:1、PC端讀取BMP位圖,并將讀取到的圖片發至數字微鏡DMD控制設備;2、根據數字微鏡DMD個數和分布情況,對BMP位圖進行填補處理;3、計算每個DMD曝光停頓的關鍵點圖片坐標信息,并存儲至容器;4、將計算后的數據信息發送至DMD控制端;5、根據曝光停頓點位置控制數字微鏡DMD移動并實現大面積曝光。本發明采用"蓋章式"分布曝光,可以大幅度提高大面積圖形曝光的曝光速率,采用HDMI進行圖片傳輸,降低對投影設備內存的要求,節省成本,同時使得曝光時長更容易控制。
        • 一種基于CCD能量重心積分法的193nm光刻系統雜散光測量方法-201711444302.8
        • 曹益平 - 四川大學
        • 2017-12-27 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本發明提出一種基于CCD能量重心積分法的193nm光刻系統雜散光測量方法,該方法應用CCD代替原有的光刻膠測量照明系統的雜散光,包括雜散光測量系統的設計、測量原理說明以及具體測量步驟三個部分。該方法操作簡單,測量精度較高,可以實現快速準確的照明系統雜散光的測量,從而為照明系統的制造和矯正提供實時的指導。
        • 直寫光刻曝光設備定位運動平臺正交性調試裝置-201920382891.X
        • 李輝;項宗齊;衛攻文 - 合肥芯碁微電子裝備有限公司
        • 2019-03-25 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本實用新型涉及直寫光刻曝光設備定位運動平臺正交性調試裝置,屬于直寫光刻曝光技術領域。該調試裝置包括支撐底座、精密定位運動平臺、調試機構、支撐架和CCD圖像采集系統。精密定位運動平臺包括Y軸、X軸和Z軸;Z軸的頂部安裝有真空吸盤;真空吸盤上方吸附帶有Mark點的高精度標定板。調試機構包括安裝在支撐底座上可升降的移動滑臺、調試連接底板、移動滑軌、與移動滑軌滑動配合的移動滑軌運動座以及固定在移動滑軌運動座上的千分表。本實用新型先采用CCD圖像采集系統對X軸和Y軸的正交性進行測量,再采用調試機構調試X軸和Y軸的正交性。本實用新型能夠提高直寫光刻曝光設備精密定位運動平臺正交性調試的效率和準確度,降低調試成本。
        • 一種柔性板雙面激光直寫數字化曝光機-201920396856.3
        • 汪孝軍;李源 - 中山新諾科技股份有限公司
        • 2019-03-26 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本實用新型涉及一種柔性板雙面激光直寫數字化曝光機,包括架體、第一輥輪、第二輥輪、至少兩個曝光鏡頭和傳送組件,第一輥輪以及第二輥輪分別轉動設置于架體上,第一輥輪與第二輥輪平行設置,且第一輥輪在第二輥輪上的投影至少部分落于第二輥輪的圓周表面上,第一輥輪與第二輥輪轉動方向相反,至少一個曝光鏡頭朝向第一輥輪設置,至少一個曝光鏡頭朝向第二輥輪設置,傳送組件設置于架體上,傳送組件一端與第一輥輪對應設置,傳送組件的另一端與第二輥輪對應設置。通過柔性板雙面激光直寫數字化曝光機進行雙面曝光的工藝流程簡單、快捷,有效提升曝光效率,且曝光過程不需使用菲林,省去了制作和維護菲林的成本,降低生產成本。
        • 一種直寫光刻機吸盤壓板裝置-201920437840.2
        • 胡剛 - 合肥芯碁微電子裝備有限公司
        • 2019-04-02 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本實用新型涉及一種直寫光刻機吸盤壓板裝置,包括安裝在吸盤上的若干固定點壓機構和安裝在吸盤上的移動壓桿機構。固定點壓機構包括貫穿安裝在吸盤左端部的第一氣缸和安裝在第一氣缸活塞桿頂部的壓板。移動壓桿機構包括對稱設置在吸盤前后兩側的前掛板組件和后掛板組件以及連接在前掛板組件與后掛板組件之間的壓桿。前掛板組件和后掛板組件均包括掛板、安裝在掛板左端部外壁上的電機、與電機的輸出軸相連的滾珠絲杠以及與滾珠絲杠的螺母相連的第二氣缸。壓桿的前后兩端分別與前掛板組件、后掛板組件的第二氣缸的活塞桿相連。本實用新型能夠將翹曲的PCB板材壓平,使PCB板材可以正常生產、曝光,提高光刻機的良率和實用性,降低對PCB板材平整度的要求。
        • 用于電子元件加工的光刻裝置-201920488424.5
        • 溫景文 - 上海馳法電子科技有限公司
        • 2019-04-12 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了用于電子元件加工的光刻裝置,包括箱體、機頭、集塵盒,所述箱體后面設置有立柱,所述立柱頂部安裝有所述機頭,所述機頭下面安裝有激光頭,所述立柱前方設置有夾具,所述夾具和所述箱體螺栓連接,所述夾具一側設置有防塵罩,所述防塵罩形狀為圓弧形,所述防塵罩和所述箱體鉚接在一起,所述防塵罩下方設置有排塵口,所述排塵口上面安裝有支撐網。本實用新型所述的用于電子元件加工的光刻裝置,利用氣流噴吹,可以在刻印前先對電子元件表面灰塵進行清理,避免灰塵對激光可以的影響,通過可任意彎折的萬向軟骨,方便調整噴嘴的位置和氣流方向,便于操作,利用集塵盒和過濾網使氣流循環流動,減小了灰塵擴散的范圍。
        • 一種曝光機基板載臺及曝光機-201920667064.5
        • 汪杰 - 東旭(昆山)顯示材料有限公司;東旭光電科技股份有限公司
        • 2019-05-10 - 2019-11-08 - G03F7/20
        • 本實用新型涉及一種曝光機基板載臺及曝光機,包括具有用于承托基板的上表面的載臺本體;多個且設置在載臺本體的上表面的支撐柱;鋪設在載臺本體的上表面的氣墊,氣墊上設置有供支撐柱穿過的柱孔;氣墊充氣后的上表面與支撐柱的上端位于同一水平面。本實用新型在進行曝光作業時,使氣墊處于充氣狀態,此時,氣墊的上表面與支撐柱的上端面形成一個支撐基板的平面,基板置于該平面上進行曝光時,由于氣墊和支撐柱緊貼基板的下表面,基板下方無空隙,曝光過程中,支撐柱與其他位置的溫度和能量差異幾乎消失,從而有效避免由于溫度差異而產生的stage?mura問題,有效增加產品良率,特別時厚度較薄的玻璃基板,改善效果最佳。
        • 一種激光直接成像曝光機及其成像方法-201910703850.0
        • 梅力;胡朗 - 江蘇盟星智能科技有限公司
        • 2019-07-31 - 2019-11-05 - G03F7/20
        • 本發明公開了一種激光直接成像曝光機及其成像方法,包括曝光機構、成像平臺、支撐平臺和底座,底座底部固定安裝有支撐腿,支撐平臺設置在底座正上方,支撐平臺和底座之間安裝有多組升降氣缸,底座上安裝有與升降氣缸連接的氣缸控制器,支撐平臺上端面安裝有成像平臺,成像平臺表面安裝有基板傳輸機構,曝光機構設置在成像平臺正上方,曝光機構對下方的基板進行直接成像曝光,本發明結構設計新穎,操作方便,能夠實現對基板的快速曝光,自動化程度高,穩定性好,提高了成像質量。
        • 一種弧形工件激光直寫曝光機的工件驅動裝置-201920236498.X
        • 陳國軍;寧震坤;吳景舟;馬迪 - 鈞迪智能裝備科技(蘇州)有限公司
        • 2019-02-25 - 2019-11-05 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了一種弧形工件激光直寫曝光機的工件驅動裝置,包括機架,機架上設置有安裝平臺,安裝平臺上安裝有支座,該支座上擺動安裝有擺架,該擺架由擺動動力裝置驅動擺動,擺架的下端安裝有柱面座體,該柱面座體上具有一個內凹的吸附面,該吸附面為圓柱面,柱面座體的擺動中心為圓柱面的中心軸,柱面座體上設置有負壓抽吸腔,該負壓抽吸腔與負壓裝置連通,吸附面上設置有若干個與負壓抽吸腔連通的吸氣孔,柱面座體的一端設置有用于校準激光直寫曝光機的DMD曝光鏡頭的校準相機。該工件驅動裝置可以吸附弧形工件并帶動弧形工件繞中心軸擺動,這樣可以減少DMD曝光鏡頭的動作,使曝光動作更加可靠,為在弧形面上的曝光提供了條件。
        • 曝光平臺及半導體曝光裝置-201920373403.9
        • 徐猛;古哲安;黃志凱;葉日銓 - 德淮半導體有限公司
        • 2019-03-22 - 2019-11-05 - G03F7/20
        • 本實用新型涉及一種曝光平臺,包括:臺體,所述臺體包括敞口的第一空腔,所述第一空腔包括第一側表面和與所述第一側表面連接的第一底表面,所述第一側表面和所述第一底表面之間的夾角為鈍角,所述第一底表面平行于水平面,用于放置半導體基底以進行曝光。本實用新型通過在臺體中加工第一側表面傾斜的第一空腔,使所述第一空腔上寬下窄,故偏移的半導體基底會自動滑落到所述第一空腔底部的第一底表面上,實現所述半導體基底的自動對準,且使得所述半導體基底在放置完成后不易滑出所述第一空腔,從而使得所述半導體基底更加穩固,該過程能夠很大程度的提高對準精度,從而增加所述半導體基底位置的對準率。
        • 一種多功能的曝光機基臺裝置-201920597663.4
        • 蔣燕紅;程言軍;蔣來紅 - 安徽帝顯電子有限公司
        • 2019-04-28 - 2019-11-05 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了曝光機技術領域的一種多功能的曝光機基臺裝置,包括有機座殼,所述機座殼內設置有基臺框,所述基臺框內設置有玻璃基臺,所述玻璃基臺上側抵接設置有刷板機構,本實用新型通過設置的電動推桿、刷板機構、耳板等結構,能夠實現灰塵擦的往復刮刷,傳動簡單可靠,且刷板機構中灰塵擦方便拆卸清洗,且灰塵擦與玻璃基臺之間預緊力可以調節,保證了灰塵擦刮除灰塵的有效性,通過設置的線型分布的氣嘴,能夠快速風干灰塵擦清理后殘留的水分,通過設置的空氣凈化器能夠使得吹向基臺的空氣更加干凈,保證基臺的潔凈度,通過在玻璃基臺表面設置凸條,減小了玻璃基臺與曝光基板之間的吸附力,使得曝光基板拆用更方便。
        • 一種移動式平行曝光機-201920604360.0
        • 李小閑 - 珠海銳晟電子科技有限公司
        • 2019-04-29 - 2019-11-05 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了一種移動式平行曝光機,包括殼體,所述殼體的表面設置有防護板,所述防護板的兩端表面對稱定有連接凸起,每個所述連接凸起的端面均開設有凹孔,所述殼體的表面對稱開設有側槽,所述防護板通過連接凸起卡入側槽內與殼體連接,所述殼體的兩側嵌入有可做水平移動的拉塊;通過設計的連接凸起和卡銷,將現有通過螺栓連接的方式改為卡合連接,在保證連接穩定的基礎上,使得在安裝過程中更加方便,同時不會發生滑絲以及生銹的現象,配合設計的拉塊,可以簡單的將卡銷抽離,易于對設備的維護。
        • 一種PCB板曝光設備-201910634028.3
        • 王華;李運聰;陳志特;黃海浩 - 東莞科視自動化科技有限公司
        • 2019-07-15 - 2019-11-01 - G03F7/20
        • 本發明涉及一種PCB板曝光設備,包括傳動模組,兩個光刻模組以及翻轉模組,所述傳動模組包括底座、回轉導軌和裝載臺,所述底座內置有驅動器;所述回轉導軌設置在所述底座上;所述裝載臺設置在所述回轉導軌上,并與所述驅動器連接,由所述驅動器控制所述裝載臺在所述回轉導軌上的移動;兩個光刻模組和翻轉模組均固定在所述底座上;其中,所述回轉導軌上依次設有第一光刻區、翻面區和第二光刻區,兩個所述光刻模組分別位于第一光刻區和第二光刻區,所述翻轉模組位于翻面區。上述PCB板曝光設備,提高了PCB板的曝光精度,加快了工作效率,同時實現PCB板雙面曝光的自動化。
        • 一種光刻機的擋光板裝置-201910653028.8
        • 郎小虎 - 上海微高精密機械工程有限公司
        • 2019-07-19 - 2019-11-01 - G03F7/20
        • 本發明涉及集成電路生產設備技術領域,具體公開了一種光刻機的擋光板裝置,包括兩塊前擋光板,前擋光板上端前后兩側分別通過一第一滑塊與一第二滑塊和對應的一上導軌連接,上導軌內設有一滾珠絲杠,前擋光板下方對應設有兩塊后擋光板,且后擋光板下端左右兩側分別通過一第一滑塊與一第二滑塊和對應的一下導軌連接,下導軌內設有一滾珠絲杠。本發明通過上導軌內的滾珠絲杠來帶動前擋光板在水平方向進行左右移動,同時通過下導軌內的滾珠絲杠來帶動后擋光板在水平方向進行前后移動,進而通過后擋光板與前擋光板的配合使用來構成一個透光口,結構簡單,解決了現有的光刻機的擋光板裝置結構較為復雜且空間占用率較高的問題。
        • 一種自動曝光機移載PCB夾板機構-201910657341.9
        • 王華;陳志特;高劍 - 東莞科視自動化科技有限公司
        • 2019-07-19 - 2019-11-01 - G03F7/20
        • 本發明涉及一種自動曝光機移載PCB夾板機構,包括移栽架;所述移栽架上設有調節滑軌,所述調節滑軌上設有夾取支架,所述夾取支架上設有夾板機構;所述夾板機構包括安裝件,所述安裝件上設有驅動機構,所述驅動機構連接于L型卡勾一端,所述L型卡勾中部轉動連接有驅動件一端,所述驅動件的另一端轉動連接于所述安裝件。有益效果是:由步進電機驅動夾板機構移動到所需位置進行夾持PCB,不需要人工調整夾子的位置,產能得到大大的提高;夾板機構的位置是PCB的工藝邊,不會破壞PCB的油墨;夾持移載過程中,不存在掉板的可能;夾板機構機構通驅動機構的推力,轉化垂直夾緊力,將PCB進行夾緊。
        • 曝光裝置、移動體裝置、平板顯示器的制造方法、及元件制造方法-201610289114.1
        • 青木保夫 - 株式會社尼康
        • 2011-09-05 - 2019-11-01 - G03F7/20
        • 于基板載臺(PST),在Y粗動載臺(23Y)移動于Y軸方向時,X粗動載臺(23X)、重量消除裝置(40)及X導件(102)與Y粗動載臺(23Y)一體移動于Y軸方向,在X粗動載臺(23X)于Y粗動載臺(23Y)上移動于X軸方向時,重量消除裝置(40)在X導件(102)上與X粗動載臺(23X)一體移動于X軸方向。由于X導件(102)是涵蓋重量消除裝置(40)于X軸方向的移動范圍延設于X軸方向,因此重量消除裝置(40)不受其位置限制,恒被X導件(102)支承。
        • 一種穩壓曬版機-201920490424.9
        • 崔娟 - 湖北工程職業學院
        • 2019-04-12 - 2019-11-01 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了一種穩壓曬版機,包括機體,機體的頂部安裝有蓋板,蓋板與機體的兩側均設置有伸縮桿,機體的前端面設置有操作臺,操作臺的頂部設置有控制面板,蓋板的一端設置有把手,且把手位于操作臺的頂部,機體的一側設置有真空泵,機體的后端面設置有連接塊。本實用新型通過在機體的內部兩側燈管與電源的連接處設置穩壓二極管,使曬曬版機在一定程度上具有自動穩壓的性能,避免由于電壓過大造成機器損傷,影響工作效率,加強了安全性,由于燈管容易受到強光的腐蝕影響燈管的發光效率和使用壽命,在蓋板的頂部涂覆有抗紫外線涂料,充分的保護了燈管的抗輻射性,同時也起到了防塵的作用,還具有消音的功效。
        • 一種LED與復眼透鏡結合的照明組件-201920081950.X
        • 霍錦充;江晟 - 東莞王氏港建機械有限公司
        • 2019-01-17 - 2019-10-29 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了一種LED與復眼透鏡結合的照明組件,包括LED燈層和復眼透鏡層,LED燈層包括散熱面和光源面,復眼透鏡層位于光源面的前端;復眼透鏡層包括第一復眼透鏡層和第二復眼透鏡層;LED燈層還包括冷卻裝置,冷卻裝置與散熱面相接觸;冷卻裝置包括外殼、若干個冷卻水進水接口和若干個冷卻水出水接口;散熱面安裝在外殼內,光源面露出外殼,若干個冷卻水進水接口和若干個冷卻水出水接口均設置在外殼上。通過LED燈層與兩層復眼透鏡層結合組成均勻照明曝光的光學元件,以保證曝光機的均勻性,當其中一顆LED燈珠、多顆燈珠或者一組燈珠損壞時,都不會影響其均勻性,可以保持均勻性,使設備提高產品的質量和降低客戶報廢產品的風險。
        • 印花機的曝光裝置-201920321387.9
        • 王科 - 杭州易染數碼科技有限公司
        • 2019-03-14 - 2019-10-29 - G03F7/20
        • 本實用新型公開了一種印花機的曝光裝置,包括機架,所述機架的兩側對稱設有支架,支架之間設有滑軌,滑軌上設有滑塊;所述曝光機構包括固定在滑塊頂部的曝光組件所述滑塊上方設有頂蓋,頂蓋上嵌設有與鏡筒支座對應的透鏡,頂蓋在位于透鏡的外圍設有環形定位塊,環形定位塊內設有風腔,所述環形定位塊的內側壁上設有沿透鏡周邊分布的且與風腔連通的出風嘴,所述頂蓋的上部設有安裝腔,安裝腔內設有氣泵,空氣制冷組件以及灰塵過濾筒。本實用新型通過出風嘴在透鏡前形成風墻,來對曝光過程中產生的揮發性氣體進行隔離,有效避免了揮發性氣體在光學透鏡上形成霧化,確保了能夠長時間進行曝光工作,提高了曝光裝置的使用壽命。
        專利分類
        ×

        專利文獻下載

        說明:

        1、專利原文基于中國國家知識產權局專利說明書;

        2、支持發明專利 、實用新型專利、外觀設計專利(升級中);

        3、專利數據每周兩次同步更新,支持Adobe PDF格式;

        4、內容包括專利技術的結構示意圖、流程工藝圖技術構造圖;

        5、已全新升級為極速版,下載速度顯著提升!歡迎使用!

        請您登陸后,進行下載,點擊【登陸】 【注冊】

        關于我們 尋求報道 投稿須知 廣告合作 版權聲明 網站地圖 友情鏈接 企業標識 聯系我們

        鉆瓜專利網在線咨詢

        400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

        咨詢在線客服咨詢在線客服
        tel code back_top
        日本少妇精品亚洲第一区
        <rp id="fwvt1"></rp>