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專利名稱

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農業化學；冶金建筑機械工程區域搜索

主分類

B 作業；運輸

C 化學；冶金

D 紡織；造紙

E 固定建筑物

F 機械工程、照明、加熱

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公布日期

2023-03-17 公布專利

2023-03-14 公布專利

2023-03-10 公布專利

2023-03-07 公布專利

2023-03-03 公布專利

2023-02-28 公布專利

2023-02-24 公布專利

2023-02-21 公布專利

2023-02-17 公布專利

2023-02-14 公布專利

專利權人

國家電網公司

華為技術有限公司

中興通訊股份有限公司

三星電子株式會社

中國石油化工股份有限公司

鴻海精密工業股份有限公司

松下電器產業株式會社

上海交通大學

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[發明專利]文檔檢索支援系統、方法及存儲有程序的計算機可讀介質-CN202211088438.0在審
發明人：寺田萬理;粕淵清孝;吉田明子;梅原光規;角谷祐輝 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-09-07 - 公布日： 2023-03-17 - 主分類號： G06F16/93 文獻下載
摘要：本發明由訓練數據獲取部獲取對從作為檢索對象的多個文檔文件中提取的一部分的文檔文件分配了標簽信息的訓練數據。通過在使用語料庫預先進行了學習的Transformer型的機器學習模型中應用所獲取的訓練數據，由構建部構建用于推定應該對文檔文件分配的標簽信息的標簽推定模型。使用所構建的標簽推定模型，由分配部對作為檢索對象的多個文檔文件分別分配標簽信息。
文檔檢索支援系統方法存儲程序計算機可讀介質

[發明專利]端部狀態確認裝置-CN202211093424.8在審
發明人：桒原丈二 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-03-17 - 主分類號： G01N21/95 文獻下載
摘要：端部狀態確認裝置包含旋轉保持裝置、光出射部及攝像部。將至少一部分具有圓形狀且于外周端部設置著保護部件的襯底搬入到所述端部狀態確認裝置。搬入的襯底保持于旋轉保持裝置。攝像部具有攝像區域，構成為能接收透過襯底及保護部件的紅外光。光出射部將紅外光出射到攝像部的攝像區域。襯底的外周端部的至少一部分以預設的規定姿勢配置于攝像部的攝像區域中預設的規定位置。
狀態確認裝置

[發明專利]基板處理裝置及基板處理方法-CN201780083713.0有效
發明人：太田喬;山田邦夫;相原友明;奧田次郎;林昌之 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2017-11-17 - 公布日： 2023-03-17 - 主分類號： H01L21/304 文獻下載
摘要：本發明提供基板處理裝置及基板處理方法，其目的在于，對基板的上表面整個區域供給藥液并提高供給到基板的中央區域的藥液的膜厚的均勻性。為了達成該目的，第一噴嘴噴出藥液時的噴出方向是含有以下分量的方向：沿著第一液體接觸位置的切線方向，且朝向上游側的分量；以及沿著與切線正交的基板的徑向，從第一液體接觸位置朝向旋轉軸的分量；第一噴嘴的藥液的噴出速度在切線方向上的速度分量具有能夠克服朝向下游側的力而使該藥液向上游側流動的大小，噴出速度在徑向上的速度分量具有能夠克服離心力而使該藥液向旋轉軸側流動的大小。當從第二噴嘴的上方觀察時，第二噴嘴噴出藥液時的噴出方向是含有以下分量的方向：沿著第二液體接觸位置的切線方向，且朝向下游側的分量。
處理裝置方法

[發明專利]膜電極接合體及制造方法、氫制造裝置、油墨的制造方法-CN202210812167.2在審
發明人：高木善則 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-07-11 - 公布日： 2023-03-14 - 主分類號： C25B1/04 文獻下載
摘要：一種膜電極接合體及制造方法、氫制造裝置、油墨的制造方法。本發明提供一種能夠提高在催化劑層中生成的物質的排出性的技術。本發明的膜電極接合體具有電解質膜和在電解質膜的一個表面上形成的陽極催化劑層(21)。陽極催化劑層(21)包含催化劑粒子(51)、離聚物(52)和拒水性粒子(53)。拒水性粒子(53)是被賦予了氟基的陶瓷粒子或被賦予了氟基的金屬粒子。通過添加拒水性粒子(53)，能夠提高在陽極催化劑層(21)中生成的物質的排出性。
電極接合制造方法裝置油墨

[發明專利]膜電極接合體及制造方法、電池、催化劑油墨的制造方法-CN202210853667.0在審
發明人：高木善則 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-07-11 - 公布日： 2023-03-14 - 主分類號： H01M4/86 文獻下載
摘要：本發明提供一種能夠在膜電極接合體中提高催化劑層的排水性的技術。膜電極接合體具有電解質膜和在電解質膜的一個表面上形成的陰極催化劑層(31)。陰極催化劑層(31)包含催化劑擔載碳(51)和離聚物(52)。催化劑擔載碳(51)包含碳粒子(511)和擔載于碳粒子(511)的催化劑粒子(512)。另外，陰極催化劑層(31)包含被賦予了氟基的拒水性碳粒子(53)。由此，能夠提高陰極催化劑層(31)的排水性。
電極接合制造方法電池催化劑油墨

[發明專利]蝕刻裝置-CN201880017000.9有效
發明人：堀勝;谷出敦;堀越章;中村昭平;高辻茂;河野元宏;木瀨一夫 -專利權人：國立大學法人名古屋大學;株式會社斯庫林集團
申請日： 2018-02-28 - 公布日： 2023-03-10 - 主分類號： H01L21/3065 文獻下載
摘要：本發明的課題在于提供實現了抑制III族氮化物半導體的過度蝕刻的蝕刻裝置。作為解決本發明課題的方法涉及一種蝕刻裝置(1000)，其具有處理室(1001)、基座(1100)、氣體供給部(1500)、等離子體產生部(1300)以及第一電位賦予部(1200)。等離子體產生部(1300)產生感應耦合等離子體。第一氣體為包含Cl2和BCl3的氯系混合氣體。BCl3在第一氣體中所占的體積比越大，則第一電位賦予部(1200)對于基座(1100)賦予的偏壓的絕對值越小。第一電位賦予部(1200)以滿足?1200·X+290≤Vpp≤?1200·X+480的方式將偏壓賦予至基座(1100)。
蝕刻裝置

[發明專利]基板處理裝置及基板處理方法-CN202210509128.5在審
發明人：柏野翔伍;大宅宗明;高村幸宏;西岡賢太郎;塩田明仁 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-05-11 - 公布日： 2023-03-07 - 主分類號： B05C5/02 文獻下載
摘要：本發明的課題在于預先防止與狹縫噴嘴一體地下降的噴嘴防護件踩踏突出物而對處理液向基板的涂布帶來不良影響的情況。本發明提供一種基板處理裝置及基板處理方法。本發明包括：狹縫噴嘴，具有狹縫狀的吐出口；移動機構，使狹縫噴嘴相對于基板相對地移動；噴嘴防護件，在狹縫噴嘴通過移動機構而相對于基板相對地行進的噴嘴行進方向上配置于狹縫噴嘴的前方側，并與狹縫噴嘴一體地移動；升降機構，使狹縫噴嘴與噴嘴防護件一體地升降；以及碰撞探測部，探測通過升降機構下降的噴嘴防護件的前端在基板的表面側向上方突出并與阻礙處理液的涂布的突出物碰撞。
處理裝置方法

[發明專利]襯底處理方法及襯底處理裝置-CN202180047544.1在審
發明人：田原香奈 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2021-06-01 - 公布日： 2023-03-07 - 主分類號： H01L21/027 文獻下載
摘要：襯底處理方法包括：第1處理液供給工序，將包含硫酸及過氧化氫水中的一者的第1處理液涂布于襯底的表面；第2處理液供給工序，將包含硫酸及過氧化氫水中的另一者且粘度比前述第1處理液低的第2處理液供給至涂布有前述第1處理液的前述襯底的表面；混合液處理工序，利用前述第1處理液及前述第2處理液在前述襯底的表面混合而生成的硫酸過氧化氫水混合液對前述襯底的表面進行處理；沖洗工序，在前述混合液處理工序之后，向前述襯底供給沖洗液，從而將前述硫酸過氧化氫水混合液從前述襯底的表面沖走。
襯底處理方法裝置

[發明專利]用于基板處理監視的設定信息的設定方法、基板處理裝置的監視方法以及基板處理裝置-CN202180043923.3在審
發明人：沖田有史;猶原英司;角間央章;增井達哉;出羽裕一 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-03-07 - 主分類號： H01L21/304 文獻下載
摘要：一種用于基板處理監視的設定信息的設定方法，具備：設置制程工序(S12)，對使基板處理裝置內的第一監視對象物移動的移動機構進行控制，使所述第一監視對象物移動至第一停止位置；設置拍攝工序，與設置制程工序(S12)并行地執行，并由照相機對第一監視對象物進行拍攝；以及設定工序(S16)，基于在設置拍攝工序中由照相機取得并包含停止于第一停止位置的第一監視對象物的第一圖像數據和表示第一監視對象物的至少一部分的第一參照圖像數據，檢測第一圖像數據內的第一監視對象物的位置，并將該位置設定為與所述第一停止位置相關的適當位置。
用于處理監視設定信息方法裝置以及

[發明專利]繪制系統、繪制方法以及記錄有程序的存儲介質-CN202210758432.3在審
發明人：坂本道昭 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-06-29 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： H05K3/00 文獻下載
摘要：本發明提供一種繪制系統。匹配位置決定部設定與對應于臨時匹配位置(95a)的模板相同大小的臨時模板區域(951a)，以臨時模板區域(951a)為中心設定比攝像部的攝像視野大的核對區域(952a)。匹配位置決定部還確認在核對區域(952a)中是否存在表示與臨時模板區域(951a)相同的圖案的重復區域。然后，在核對區域(952a)中存在重復區域的情況下，匹配位置決定部反復使臨時匹配位置(95a)向規定方向移動而再次設定臨時模板區域(951a)以及核對區域(952a)，確認是否存在重復區域。另一方面，在核對區域(952a)中不存在重復區域的情況下，匹配位置決定部將臨時匹配位置(95a)決定為匹配位置。
繪制系統方法以及記錄程序存儲介質

[發明專利]繪制裝置-CN202210803271.5在審
發明人：福田浩士 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-07-07 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： G03F7/20 文獻下載
摘要：繪制裝置(1)的繪制頭移動機構(42)使頭單元(43)沿著頭移動路徑在第1繪制位置與第2繪制位置之間水平移動。氣體送出部(5)沿著頭移動路徑配置。氣體送出部(5)的氣體流路(51)沿著頭移動路徑從第1繪制位置延伸到第2繪制位置。氣體送出口設于氣體流路(51)的與頭單元(43)相對的部位，朝向頭罩(44)的氣體流入口送出氣體。送出位置切換部將氣體送出口的位置在與位于第1繪制位置的頭單元(43)相對的第1送出位置、和與位于第2繪制位置的頭單元(43)相對的第2送出位置之間切換。由此，能夠良好地調節沿著頭移動路徑移動的繪制頭的溫度。
繪制裝置

[發明專利]基板處理方法以及基板處理裝置-CN202210963352.1在審
發明人：王智達;安藤幸嗣;墨周武;守屋千晶;上原大貴 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： H01L21/67 文獻下載
摘要：本發明提供基板處理方法以及基板處理裝置，涉及在處理容器的處理空間內使用處理流體干燥基板的基板處理技術，能夠一邊有效地抑制形成于基板的表面的圖案的坍塌，一邊使基板良好地干燥。本發明是在處理容器內依次執行升壓工序、恒壓工序以及減壓工序的基板處理技術，在升壓工序與恒壓工序之間或者恒壓工序的初始階段，一邊將處理空間維持為第一壓力一邊將處理空間內的處理流體的流量抑制為比第一流量低的第二流量。由此促進處理空間內的處理流體與液體的相互擴散。然后，在進行該擴散后，通過從處理空間排出處理流體，執行基板干燥。
處理方法以及裝置

[發明專利]圖像處理方法、受精卵的評價方法、計算機程序以及記錄介質-CN202210975037.0在審
發明人：長谷部涼 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-08-15 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： G06T7/00 文獻下載
摘要：本發明的圖像處理方法包括：獲取對分裂期的受精卵進行光學相干斷層成像而得到的表示受精卵的三維圖像的三維圖像數據的工序；基于提取的結果和三維圖像數據，按每個卵裂球提取三維圖像中各個卵裂球所占的卵裂球區域的工序；基于三維圖像數據，求出各個卵裂球區域的體積的工序；以及基于體積的導出結果，求出指標卵裂球的體積偏差的指標值的工序。根據通過對發育初期的受精卵進行OCT拍攝而得到的圖像數據，能夠獲取作為評價受精卵的狀態時的指標的定量信息。
圖像處理方法受精卵評價計算機程序以及記錄介質

[發明專利]繪制裝置、繪制方法及記錄有程序的存儲介質-CN202210992521.4在審
發明人：坂本道昭 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-08-18 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： G03F7/20 文獻下載
摘要：提供一種繪制裝置、繪制方法及記錄有程序的存儲介質。位置檢測部(113)通過對由拍攝部獲取到的拍攝圖像進行使用了模板的圖案匹配，檢測基板的位置。存儲部(111)存儲向第1圖案上繪制的第2圖案的作為CAD數據的第2CAD數據。數據生成部(115)將第2CAD數據柵格化而生成第2柵格數據。存儲部(111)還存儲表示在第1圖案上基于位置檢測部(113)進行圖案匹配的匹配位置的坐標。數據生成部(115)將第1圖案的CAD數據柵格化而創建中間數據，并從該中間數據生成與匹配位置相對應的規定大小的區域的圖像數據來作為模板。由此，能夠容易且迅速地進行模板的生成。
繪制裝置方法記錄程序存儲介質

[發明專利]繪制裝置以及繪制方法-CN202210902852.4在審
發明人：久野真士;青松哲純 -專利權人： 株式會社斯庫林集團
申請日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-03-03 - 主分類號： G03F7/20 文獻下載
摘要：本發明提供一種繪制裝置以及繪制方法。繪制裝置(1)具備繪制頭(41)、第1載臺(21a)以及第2載臺(21b)、以及第1測距傳感器(5)。第1測距傳感器(5)的傳感器要素(51)在向由一方的載臺保持的基板(9)繪制圖案的期間內，獲取與由另一方的載臺保持的基板(9)上的測定位置之間的距離。繪制頭(41)包括獲取與正在進行圖案的繪制的基板(9)上的測定位置之間的距離的第2測距傳感器?？刂撇?10)的聚焦控制部使用在繪制圖案前通過第1測距傳感器(5)從基板(9)獲取的信息、和在向該基板(9)繪制圖案的過程中從第2測距傳感器獲取得信息，控制從繪制頭(41)射出的光的聚焦位置。
繪制裝置以及方法

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